Intel hat einen wichtigen Meilenstein in der Zusammenarbeit mit dem auf ultravioletten Strahlen basierenden Lithografiesystem ASML High-NA von ASML erreicht. Zu Testzwecken wurde die Maschine auf einem Silizium-Wafer eingesetzt, der mit lichtempfindlichen Chemikalien behandelt wurde, um ein Schaltkreismuster aufnehmen zu können. Das System wird Teil der ersten Lithographie-Maschine von Inter sein, die derzeit gebaut wird. Der Test erwies sich als erfolgreich, und die Maschine gilt nun als einsatzbereit, auch wenn sie noch nicht das Maximum ihrer Leistungsfähigkeit erreicht hat.
Die Lithografie mit ultravioletter Strahlung ist ein vielversprechender Bereich, auf den große Mikrochiphersteller wie Intel, Samsung und TSMC umsteigen werden. Insbesondere Intel beabsichtigt, das System für den kommenden Intel 14A zu verwenden.
Es ist wichtig zu erwähnen, dass die Lichtquelle eines der komplexesten Elemente eines Lithographie-Werkzeugs ist, das extremes Ultraviolett verwendet.
