Europa tritt in das Ångström-Zeitalter ein

Europa sichert sich einen starken Vorteil im globalen Chip-Wettlauf. Das belgische Forschungszentrum Imec wird bald das neueste High-NA-EUV-System von ASML installieren. Das Modell TWINSCAN EXE:5200 erreicht eine numerische Apertur von 0,55. Damit rückt die Fertigung unter 2 nm näher.

Sie sehen hier ein Werkzeug, das Produktionsprozesse neu definiert. Im Vergleich zu früheren EUV-Systemen mit NA 0,33 druckt es feinere Strukturen in nur einem Durchgang. Weniger Schritte bedeuten geringere Komplexität und höhere Ausbeute. Hersteller profitieren von besserer Overlay-Genauigkeit und neuen Resistmaterialien.

Vom Forschungslabor zur Industrie

Imec und ASML erzielten bereits 16 nm Linienbreite in einem einzigen Belichtungsschritt in Veldhoven. Nun überträgt Imec diese Ergebnisse auf 300 mm Pilotlinien im NanoIC-Programm.

Die vollständige Einsatzbereitschaft ist für Ende 2026 geplant. Danach erhält das europäische Ökosystem frühen Zugang zur Ångström-Klasse.

Warum das für uns zählt

Dies ist mehr als eine technische Aufrüstung. Europa stärkt seine Rolle jenseits der 2-nm-Generation.

Aus unserer Sicht wird High-NA-EUV die Chips in Ihren Geräten, Rechenzentren und KI-Anwendungen prägen.

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