Chinesisches Start-up meldet Produktion photonischer Chips ohne Lithografiemaschinen von ASML

Das chinesische Unternehmen Prinano hat bekannt gegeben, dass es erfolgreich 8-Zoll-Wafer für photonische Chips hergestellt hat, ohne dabei auf herkömmliche Deep-Ultraviolet-Lithografiegeräte (DUV) zurückzugreifen. Das Projekt wurde in Zusammenarbeit mit Shenzhen Litra Technology durchgeführt.

Mit dieser Initiative wollen die chinesischen Unternehmen ihre Abhängigkeit von Lithografiegeräten des niederländischen Unternehmens ASML verringern, die Exportbeschränkungen seitens der USA und anderer Länder unterliegen.

Eine Alternative zu den teuren DUV-Systemen

Anstelle der herkömmlichen DUV-Lithografie setzte das Unternehmen seine patentierte Vakuum-Nanoimprint-Lithografie-Technologie (NIL) ein, die als PL-AS bekannt ist. Den Entwicklern zufolge kann der neue Ansatz die Produktionskosten für photonische Chips im Vergleich zu herkömmlichen Fertigungsverfahren um etwa das Zehnfache senken.

Im Gegensatz zur DUV- oder EUV-Lithografie, bei der Schaltkreismuster mithilfe von Licht und optischen Systemen auf Siliziumwafer übertragen werden, funktioniert die NIL-Technologie durch physikalischen Druck. Die PL-AS-Plattform nutzt Druckregelung auf Wafer-Ebene, speziell entwickelte zweischichtige Druckmaterialien und patentierte Fertigungsprozesse.

Laut Prinano ermöglichen diese Technologien die Herstellung von Strukturen unter 10 Nanometern, was die Plattform den Anforderungen der modernen Halbleiterfertigung näherbringt.

Eine Technologie mit großem Potenzial und Herausforderungen

Die Nanoimprint-Lithografie gilt seit langem als vielversprechende Alternative zu herkömmlichen Methoden der Halbleiterfertigung. Sie bietet eine hohe Präzision bei gleichzeitig deutlich reduzierten Produktionskosten.

Ihre breite Einführung wurde jedoch jahrelang durch Bedenken hinsichtlich Defekten, Verschleiß der Formen, Durchsatz und Stabilität der Produktionserträge behindert. Aufgrund dieser Herausforderungen haben die meisten Chiphersteller weiterhin auf die etablierten DUV- und EUV-Technologien gesetzt.

Was bedeutet das für den Markt?

Sollten sich die angekündigten Fähigkeiten in der tatsächlichen Produktion bewähren und erfolgreich für die Massenfertigung skaliert werden, könnte China ein weiteres Instrument gewinnen, um seine Abhängigkeit von westlicher Halbleiterausrüstung zu verringern. Gleichzeitig könnte sich die Nanoimprint-Lithografie als kostengünstigere Alternative für die Herstellung bestimmter Arten von photonischen Chips und Halbleitern etablieren.