Westliche Experten: “EUV-Scanner entstehen in China erst bis 2040”

Westliche Experten und wichtige Akteure der globalen Halbleiterindustrie beobachten weiterhin das Tempo der Importsubstitution in China. 

Nach Prognosen der deutschen Zeiss-Gruppe (dem Hauptlieferanten optischer Komponenten für den niederländischen Giganten ASML) werden chinesische Entwickler mindestens 15 Jahre benötigen, um eigene EUV-Lithografieanlagen (Extrem-Ultraviolett) zu bauen.

Warum dauert es so lange?

EUV-Scanner sind für die Herstellung fortschrittlicher Chips mit Strukturbreiten von 7 nm und darunter unverzichtbar. Aufgrund strenger Exportkontrollen seitens der USA und der Niederlande werden fertige Geräte dieser Klasse nicht nach China geliefert. Folglich sind chinesische Hersteller gezwungen, Alternativen von Grund auf neu zu entwickeln.

Frank Rohmund, Leiter des Bereichs Halbleitertechnologien bei der Zeiss-Gruppe, bestätigte in einem Interview mit Bloomberg, dass ein Zeitrahmen von 15 Jahren realistisch erscheine, wies jedoch darauf hin, dass es schwierig sei, den aktuellen Fortschritt in China genau einzuschätzen.

Einziger Marktteilnehmer und Impulsgeber für chinesische Innovation

Heute ist ASML nach wie vor der weltweit einzige Hersteller von EUV-Lithografiesystemen, wobei die Zeiss-Gruppe die Optik liefert, mit der 80 % aller Chips weltweit hergestellt werden. 

Rohmund warnte, dass eine weitere Verschärfung der Exportvorschriften nicht nur den europäischen Umsatz beeinträchtigen, sondern auch die eigene Entwicklung im chinesischen Halbleitersektor beschleunigen würde. Der Zeiss-Vertreter betonte jedoch, dass chinesische Ingenieure zwar seit Jahrzehnten an eigenen Anlagen arbeiten, der technologische Vorsprung des Westens jedoch nach wie vor immens sei.